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C60-20S 離子源系統雖然所有離子束都會(huì )濺射或蝕刻，但我們的一些系統的表面是專(zhuān)為高效和快速濺射而設計的。濺射光束有三個(gè)特點(diǎn)：高電流、大光斑尺寸和寬視場(chǎng)。這些特性的結合意味著(zhù)它們可以在大面積上盡快輸送大劑量的離子，以?xún)?yōu)化蝕刻速率。

GCIB-10S 離子源系統是一種高性能10千伏氣體團簇離子束，用于快速、低損傷濺射和更高質(zhì)量的表面分析。GCIB 10S提供了大量有用的功能，包括實(shí)時(shí)集群大小測量和內置樣本電流成像系統，以幫助您充分利用實(shí)驗。

GCIB-40 離子源系統是一種40 kV氣體團簇離子束，產(chǎn)生團簇離子聚焦束，用于需要對分子離子敏感的分析應用。GCIB在較大程度地減少碎片和從表面去除完整分子方面具有單獨的的能力。在40千伏電壓下工作的GCIB 40提供了優(yōu)異的電離產(chǎn)率，進(jìn)一步增強了分子信號。

GCIB-70 離子源系統是一種70 kV高性能氣體團簇離子束，可產(chǎn)生高度聚焦的團簇離子束，用于高分辨率成像SIM，具有沒(méi)有可以比較的的靈敏度。在SIMS中使用氣體團簇束的好處現在已得到充分證實(shí)；高質(zhì)量團簇在濺射有機、生物和聚合物材料時(shí)非常有效，可以產(chǎn)生高產(chǎn)量的完整分子離子。